「uv」の検索結果

在 Windows/macOS/Linux 上使用 `uv` 执行 Python 运行、依赖同步、锁文件管理、Python 版本管理与工具命令（`uv run`、`uv sync`、`uv lock`、`uv python`、`uv tool`）。当任务涉及“用 uv 运行脚本/命令”“临时依赖（`--with`）”“锁文件一致性（`--locked`/`--frozen`）”“跨平台 shell（bash/zsh/PowerShell）下排查 uv 执行问题”时使用此 skill。

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半导体芯片制造工艺 (Semiconductor Process Engineering / 半导体芯片制造工艺 — 以「物理化学极限 + 良率经济双重约束」为特征的集成电路前道/后道制造工艺认知操作系统：从「器件架构与微缩路线（planar→FinFET→GAA nanosheet→CFET、等效微缩 DTCO/STCO、背面供电 BSPDN）→ 工艺整合（FEOL/MOL/BEOL 模块协同、PDK、流片 tape-out）→ 单元工艺（光刻 litho（DUV 浸没式 193i / EUV 13.5nm / 多重曝光 SADP-SAQP / OPC / mask）、刻蚀 etch（RIE/ICP/原子层刻蚀 ALE）、薄膜沉积 depo（CVD/PECVD/LPCVD/ALD/PVD/外延 epi/电镀 Cu）、掺杂 doping（离子注入 ion implant / 退火 RTA-laser anneal）、CMP 化学机械抛光、清洗 cleaning）→ 量测检测 metrology（CD-SEM / OCD / overlay / 椭偏 ellipsometry / 缺陷检测 defect inspection / e-beam）→ 良率工程 yield（缺陷密度 / SPC 统计过程控制 / FDC / APC / DOE 实验设计 / 良率爬坡 yield ramp）→ 先进封装 advanced packaging（2.5D/3D、CoWoS、HBM、混合键合 hybrid bonding、chiplet、TSV）」的完整器件-工艺-良率-量产决策链。覆盖 (a) 第一性张力 — **物理/化学/材料的硬约束（量子隧穿、短沟道效应、RC 延迟、热预算、缺陷物理、ppb 级污染控制）⇄ 良率/成本/产能的经济约束（每片晶圆成本、良率是主经济指标、D0 缺陷密度、wafer-per-hour、折旧）**；**持续微缩/摩尔定律（dimensional + equivalent scaling、节点路线图 N5/N3/N2/A16/A14、high-NA EUV）⇄ 物理极限/微缩放缓（原子尺度、漏电、功耗墙、成本墙、'摩尔定律已死'之争）**；**协同优化/整合（DTCO 设计-工艺协同、STCO 系统-工艺协同、模块间 trade-off）⇄ 单模块极致优化（单一 unit process 工艺窗口）**；**工艺配方的 tacit 手艺（process recipe 调试、工艺窗口、缺陷根因分析、量产 ramp 的经验）⇄ 可建模/可仿真/数据驱动（TCAD 仿真、ML 良率分析、APC/FDC、数字孪生）**；**性能-功耗-面积-成本 PPAC 四角权衡 ⇄ 良率/可制造性 DFM 优先**；**自主可控/国产替代（卡脖子、EUV 出口管制、设备/材料/EDA 国产化、SMIC/长江存储/长鑫/中微/北方华创/上海微电子）⇄ 全球高度分工（ASML 光刻垄断、AMAT/Lam/TEL/KLA 设备、TSMC/Samsung/Intel 代工、全球供应链）**。(b) 核心工作流 / pipeline（最标准、最易蒸高质量 + CLI 化）— 新节点/新工艺导入：器件目标与 PPAC 定义 → 工艺整合方案与 PDK → 单元工艺开发与配方调试（DOE 找工艺窗口）→ 量测建立与 SPC → 良率爬坡（缺陷分类 + 根因分析 + 工艺改善）→ 量产移交与持续改善。具体单元工艺 SOP：光刻（曝光条件 / OPC / overlay 控制 / 多重曝光分解）、刻蚀（选择比 / profile / loading effect / ALE）、沉积（台阶覆盖 / 应力 / 均匀性）、CMP（去除速率 / 碟形 dishing / 侵蚀 erosion）、量测与缺陷分析、良率分析与 FA 失效分析。(c) 工具栈 — 设备（光刻 ASML/上海微电子 SMEE；刻蚀+沉积 AMAT/Lam/TEL/中微 AMEC/北方华创 Naura；离子注入 AMAT/Axcelis；CMP AMAT/荏原 Ebara；量测检测 KLA/AMAT/中科飞测/上海精测）、EDA/TCAD/仿真（Synopsys Sentaurus/Silvaco/Coventor SEMulator3D、OPC Calibre/Synopsys）、良率与制造软件（SPC、MES、FDC/APC、缺陷分析 yield management、PWS）、材料（光刻胶 photoresist、CMP 浆料 slurry、特气、靶材、掩膜 mask blank）。(d) 知识正典 — 半导体工艺 canon 横跨器件物理与制造工程：核心教材（Plummer/Deal/Griffin《Silicon VLSI Technology》、Sze《Physics of Semiconductor Devices》《VLSI Technology》、Wolf & Tauber《Silicon Processing for the VLSI Era》、Campbell《Fabrication Engineering at the Micro and Nanoscale》、May & Spanos《Fundamentals of Semiconductor Manufacturing and Process Control》、Quirk & Serda《Semiconductor Manufacturing Technology》、肖国勇/施敏中文教材）、路线图（ITRS/IRDS、IEEE 国际器件与系统路线图）、顶会论文（IEDM、Symposium on VLSI Technology、IRPS 可靠性、SPIE Advanced Lithography、ISSCC、DAC）、行业分析（SemiAnalysis、TechInsights、IC Knowledge）。(e) figures/流派 — 学术与器件奠基（Gordon Moore 摩尔、Robert Dennard 登纳德微缩、胡正明 Chenming Hu FinFET/UTB-SOI 发明人 UC Berkeley、刘明 Tsu-Jae King Liu Berkeley、Krishna Saraswat Stanford、Mark Bohr Intel 工艺架构）、产业领袖与工艺大师（张忠谋 Morris Chang TSMC、林本坚 Burn-Jeng Lin 浸没式光刻、Martin van den Brink ASML、米玉杰/梁孟松 SMIC/三星工艺、Mark Liu/魏哲家 TSMC）、行业分析师（Dylan Patel SemiAnalysis、Scotten Jones IC Knowledge、TechInsights 拆解、Handel Jones）、科普与拆解（Asianometry、The Chip Letter、半导体行业观察）。流派分歧：等效微缩派 vs 摩尔定律已死派、前道微缩 vs 先进封装 chiplet 异构集成、dimensional scaling vs DTCO 协同优化、IDM vs 纯代工 foundry 模式、自主可控/国产替代路线 vs 全球分工。(f) 行业话术/黑话 — 制程节点 node / 流片 tape-out / 工艺窗口 process window / 良率 yield / 缺陷密度 D0 / 关键尺寸 CD / 套刻 overlay / 掩膜 reticle-mask / 光刻胶 PR / 浸没式 immersion / EUV/DUV / 多重曝光 multi-patterning SADP-SAQP / OPC / 刻蚀选择比 selectivity / profile / loading effect / 原子层刻蚀 ALE / 台阶覆盖 step coverage / 外延 epi / 离子注入 implant / 退火 anneal / RTA / CMP / dishing-erosion / FEOL-MOL-BEOL / FinFET / GAA / 纳米片 nanosheet / CFET / 背面供电 BSPDN / high-NA / PPAC / DTCO-STCO / DFM / SPC / FDC-APC / DOE / WAT-PCM / 良率爬坡 yield ramp / FA 失效分析 / particle 颗粒 / 洁净室 cleanroom-级别 / 12寸-8寸 wafer / chiplet / CoWoS / HBM / 混合键合 hybrid bonding / TSV / PDK / 等效微缩. (g) 争议/批判 — 「摩尔定律是否已死 vs 等效微缩继续」、「节点命名营销化（N3/N2 ≠ 物理 3nm/2nm，gate pitch/metal pitch 才是真尺度）」、「前道微缩 vs 先进封装异构集成谁是未来」、「自主可控/国产替代的现实（EUV 卡脖子、设备/材料/EDA 国产化进度、出口管制 entity list、良率与成熟度差距）」、「良率/成本/性能三角权衡」、「人才稀缺与工艺 know-how 的 tacit 性」、「中国大基金/产能扩张是否过剩」、「制裁与技术封锁」。(h) 大量隐性工艺手艺（process recipe 调试与工艺窗口寻找、缺陷根因分析与 FA、量产良率爬坡的经验判

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Discover and integrate RuV Stack projects when the user asks where to begin with ruvnet, which RuV tools fit a goal, or how the stack fits together.

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Python のスクリプト作成・依存管理・環境構築を行うときに使う。uv 優先の実行方法、PEP 723 インライン依存、uv add / uv run --with の使い分けを定める。

Advanced RuView capabilities — RuvSense multistatic sensing (attention-weighted fusion, geometric diversity, persistent field model), cross-viewpoint fusion across multiple nodes, RF tomography (ISTA L1 solver, voxel grids), longitudinal biomechanics drift, pre-movement intention signals, adversarial signal detection, and multistatic mesh security hardening. Use for research-grade or multi-node deployments.

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Use the RuView `wifi-densepose` CLI binary (incl. MAT scan/status/zones/survivors/alerts/export subcommands), the REST API (`wifi-densepose-api`, Axum), and the browser/WASM build (`wifi-densepose-wasm`, `wifi-densepose-wasm-edge`). Use when integrating RuView into another program, scripting it from the shell, exposing it over HTTP, or shipping it to the browser / ESP32-WASM3.

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Run RuView sensing applications — presence/occupancy, breathing & heart rate, activity & fall detection, 17-keypoint pose estimation (WiFlow), sleep monitoring & apnea screening, environment mapping, Mass Casualty Assessment (MAT), and the 3D point-cloud fusion demo. Use when someone wants to actually *do* something with a working RuView setup.

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Configure RuView — ESP32 sdkconfig variants, NVS provisioning, WiFi channel / MAC filter overrides (ADR-060), edge intelligence modules (ADR-041), sensing-server flags, multi-node mesh, and Cognitum Seed integration. Use when adjusting how a deployed RuView system behaves without changing code.

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Train RuView models — camera-free WiFlow pose (10 sensor signals, no labels), camera-supervised pose (MediaPipe + ESP32 CSI → 92.9% PCK@20, ADR-079), RuVector contrastive embeddings (AETHER, ADR-024), domain generalization (MERIDIAN, ADR-027), local SNN environment adaptation, plus GPU training on GCloud and Hugging Face publishing. Use when building, fine-tuning, evaluating, or shipping a model.

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Onboarding and first-run for RuView (WiFi-DensePose) — Docker demo with simulated data, repo build, and the fastest path to a live sensing dashboard. Use when someone is new to RuView or wants the shortest path to "it works on my machine".

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Use when UV unwrapping, placing seams, straightening or packing UVs, setting texel density, laying out UDIMs or mirrored UVs, or baking normal, AO, curvature, ID or displacement maps from a sculpt or high poly onto a low poly or retopo in Blender, including Multires bakes. Also when a bake has black or inverted patches, flat areas, cracks, seams, wavy lines or AO ghosts, bpy.ops.object.bake returns CANCELED, or uv.unwrap silently fails.

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Keil MDK 工程构建工具，用于扫描 .uvprojx/.uvproj/.uvmpw 工程、枚举 Target、执行 build/rebuild/clean 并解析构建日志，返回可供 jlink/openocd 复用的产物路径。 flash 子命令仅作为兼容入口保留。当用户提到 Keil、MDK、uVision、UV4、 Target 枚举、编译、重建、清理、烧录、下载固件、flash 时自动触发，也兼容 /keil 显式调用。 即使用户只是说"编译一下"或"烧录到板子上"，只要上下文涉及嵌入式 Keil 工程就应触发此 skill。

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Production UV unwrapping for seam placement, UV packing, texel density, UDIM, lightmap UVs, and modular UV layouts. Use when preparing meshes for texturing and engine export in Blender via MCP.

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Récupérer les preuves d'un courrier envoyé via l'API Merci Facteur avec getProof — preuve de dépôt, avis de réception signé, preuve de téléchargement d'un recommandé électronique. Utiliser quand il s'agit de récupérer, télécharger, archiver ou afficher un AR, une preuve de dépôt ou un justificatif d'envoi, ou de savoir si un recommandé a été distribué.

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高速Python依存関係管理、仮想環境、モダンなPythonプロジェクトワークフローのためのuvパッケージマネージャーをマスター。Pythonプロジェクトのセットアップ、依存関係の管理、uvによるPython開発ワークフローの最適化時に使用。

Set up and run RuView mmWave / FMCW radar sensing — ESP32-C6 + Seeed MR60BHA2 (60 GHz, heart rate / breathing rate / presence) and HLK-LD2410 (24 GHz, presence + distance), plus mmWave↔WiFi-CSI sensor fusion (48-byte fused vitals, MR60BHA2/LD2410 auto-detect, v0.5.0+). Use when the deployment includes a millimetre-wave radar alongside or instead of WiFi CSI.

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Explore and prototype rvAgent + RVF integration for RuView agentic flows. Use when working on cross-cog coordination, operator-facing agents reading BFLD / pose / vitals events live, or persisting agent state alongside sensing data in the same RVF container.

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ESP32-S3 / ESP32-C6 firmware build, flash, WiFi provisioning, and serial monitoring for RuView CSI sensing nodes. Use when setting up physical hardware, reflashing a node, or debugging a device that isn't streaming CSI.

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Verify a RuView build — full Rust workspace tests, the deterministic Python pipeline proof (SHA-256 Trust Kill Switch), firmware hash manifest, and the ADR-028 witness bundle with one-command self-verification. Use after any significant change, before merging a PR, or to produce an attestation bundle for a recipient.

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Checks whether the uv Python package manager is installed and installs it if missing. Ensures uv is on PATH. Use when another skill requires uv as a prerequisite.

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Handles batch effects in bulk RNA-seq via design-matrix inclusion (the correct path for DE), ComBat/ComBat-seq for visualization, SVA for unknown latent factors, RUVSeq for negative-control-gene-anchored unwanted variation, and limma::removeBatchEffect for plotting only. Encodes the Nygaard 2016 cardinal sin against testing on a batch-corrected matrix, the choice between SVA/RUVg/RUVs/RUVr, the confounding non-identifiability problem, the single-cell boundary (Harmony/MNN are NOT for bulk), and the Goh 2017 harmonization critique. Use when designing a DE analysis with batch structure, troubleshooting batch-dominated PCA, choosing ComBat vs ComBat-seq, handling unknown batch via SVA, integrating across studies, or deciding when (rarely) to subtract batch.

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>Ce skill génère des sujets d'entraînement pour les deux épreuves écrites de consultation du CRFPA : l'épreuve de droit des obligations (tronc commun) et l'épreuve de spécialité (civil, affaires, social, pénal, administratif, international et européen, fiscal). Chaque sujet est accompagné d'une grille de notation détaillée sur 20 points. Vous ciblez un thème précis, ou vous laissez le skill procéder à un tirage au sort couvrant l'ensemble du programme. Connexion aux MCP OpenLegi et GoodLegal requise : toutes les références d'articles et d'arrêts sont vérifiées sur les sources officielles, sans citation inventée

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Recherche académique dans les bases de données de doctrine juridique française, européenne et internationale. Utiliser cette skill lorsque l'utilisateur demande de rechercher des articles de doctrine, des thèses, des ouvrages académiques, ou des travaux universitaires en droit — y compris en droit comparé. Sources principales : ISIDORE (agrégateur SHS du CNRS incluant Cairn.info, Persée, OpenEdition), HAL (archive ouverte française), OpenAlex (base ouverte mondiale 250M+ travaux), Semantic Scholar, CrossRef, Persée (OAI direct), et CORE. Couvre la doctrine juridique francophone ET internationale avec workflow bilingue intégré pour le droit comparé. Déclencher aussi pour : bibliographie commentée, état de l'art, revue de littérature juridique, recherche d'auteur, vérification de citation, analyse bibliométrique.

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Index analytiques sourcés du corpus réglementaire et doctrinal sur la gouvernance des émetteurs cotés français (rapports AMF et HCGE 2020-2025, guide d'application HCGE, rapport sénatorial Rietmann/Gay, Code AFEP-MEDEF, sources légales et européennes). À utiliser pour : (1) retrouver une position, une statistique ou une citation exacte avec sa source et sa page ; (2) analyser l'évolution longitudinale des positions AMF/HCGE/ESMA sur un thème ; (3) appliquer la grille d'analyse en 13 blocs (A-M) à un émetteur. Déclencher pour toute question sur la gouvernance d'une société cotée française : conseil d'administration, indépendance des administrateurs, comités, rémunération des dirigeants, say on pay, say on climate, assemblée générale, droits des actionnaires, plans de succession, mixité, RSE/CSRD, comply-or-explain, name and shame AMF, soft law AFEP-MEDEF, recommandations AMF, positions HCGE.

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